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中頻濺射電源

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中頻濺射電源.JPG

應用于雙陰極濺金屬或半導體材料, 特別適合于反應磁控濺射,氧化物  氮化物   碳化物膜層   增加離化率

特點:

1:主回路拓撲采用PFC+全橋構架  結合ARM+DSP數字控制技術  

2:恒功率 /恒流/ 恒壓 模式切換   恒功率模式更能保證鍍膜工藝的重復性

3:內置滅弧時間設置10us-100us 適應不同的工藝及靶材 打弧顯示計數

4:同時檢測 V-ARC & I-ARC 快速切斷輸出  同時啟動內置專利技術消除殘余電弧能量,避免陰極及基片打弧,確保高精膜層

5:超寬的負載匹配能力 輸出電壓350-1000V 最大電流128A

6:一流的可靠設計,目前市場上已有100KW 中頻500臺以上 在LOEW玻璃生產線24H穩定運行

7:模塊化設計以N+1形式構成   多機并聯功率可達120KW

8:獨立主控系統采用智能均流技術  確保并聯時每個模塊輸出相同功率 &頻率  有效提高了電源系統的可靠性

9:操作可面板控制  遠程PLC 控制 模擬量   PROFIBUS 通訊


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